Name: ASMLが4億ドルを投じた新型高NAマシンでチップを高速化する方法 (How ASML Makes Chips Faster With Its New $400 Million High NA Machine)
Uploaded: 2025-05-27T22:13:26.000Z
Duration: 17 min 25 s
Description: VoiceTubeの動画で発音を聞きながら英語表現を覚えよう！学べる英語：

All right, we're about to enter the high and A-level.

よし、これからハイレベルとAレベルに入る。

程度の副詞

Behind this highly secured door in an ASML cleanroom, there's a giant $400 million machine.

ASMLのクリーンルームにある厳重に保護されたドアの向こうには、4億ドルの巨大な機械がある。

Made with such closely protected technical specificity.

技術的な特異性を守りながら作られた。

Very complex, the most advanced machine tool in history.

非常に複雑で、史上最先端の工作機械だ。

That no filming's ever been allowed, even by ASML's own team, until we flew across the world to see it.

ASMLのチームでさえ、私たちが世界中を飛び回って見に行くまで、撮影は許可されていなかった。

We're here at ASML's headquarters in the Netherlands, where 100% of the world's extreme ultraviolet lithography machines are made.

私たちはオランダにあるASML本社にいます。ここは、世界の極端紫外線露光装置の100％が製造されている場所です。

And now the next generation machines called HiNA.

そして今、HiNAと呼ばれる次世代マシンが登場した。

We had to wear these bunny suits to protect these extremely precise machines from getting contaminated by our own hair and skin cells.

私たちは、この極めて精密な機械が自分の髪の毛や皮膚細胞で汚染されないように、バニースーツを着なければならなかった。

This is HiNumerical Aperture, HiNA, the new generation of EUV machines.

これがHiNA（HiNumerical Aperture）であり、新世代のEUV装置である。

The only machines in the world capable of printing nanoscopic blueprints onto the most advanced chips.

最先端のチップにナノスケールの設計図を印刷できる世界で唯一の機械。

NVIDIA, Apple, Taiwan Semiconductor, Samsung, Intel, none of their advanced chips can be made without EUV.

エヌビディア、アップル、台湾セミコンダクター、サムスン、インテル、どの先進チップもEUVなしでは製造できない。

And this company has that market completely cornered.

そして、この会社はその市場を完全に掌握している。

The first HiNA machine was installed in the U.S. at Intel's Oregon Chip Fabrication

米国初のHiNAマシンは、インテルのオレゴン・チップ・ファブリケーションに設置された。

これまでに出荷されたのは5台のみ。

Indeed, the machine is so big you can't ship it in once.

確かに、マシンはとても大きく、一度では出荷できない。

だから、パーツに分けるんだ。

Now they're being ramped up to make millions of chips on the factory floors of the few companies that can afford them.

現在では、数百万個のチップを製造するために、余裕のある数社の工場で増産されている。

ASML says eventually HiNA will be used by all its EUV customers, other advanced chipmakers like Micron, SK Hynix and Rapidus.

ASMLによれば、HiNAは最終的には同社のEUV顧客であるマイクロン、SKハイニックス、ラピダスなどの先進チップメーカーすべてで使用されることになる。

Without EUV, without very advanced logic manufacturing, most probably AI cannot happen.

EUVがなければ、非常に高度なロジック製造がなければ、おそらくAIは実現できないだろう。

CNBC went from ASML's labs in California all the way to its Veldhoven, Netherlands headquarters to bring you this never-before-seen look at the world's most advanced chipmaking machine and to ask its makers exactly how it works and what could go wrong amidst Trump's tariffs, export controls and a new training facility coming to the U.S.

CNBCは、カリフォルニア州にあるASMLの研究所からオランダのフェルドホーフェン本社まで足を運び、世界最先端のチップ製造マシンの未公開映像をお届けするとともに、トランプ大統領の関税、輸出規制、そして米国に誕生する新たなトレーニング施設の中で、ASMLがどのように機能し、何が問題なのかをメーカーに尋ねた。

スーツを着てエアシャワーを浴びる。

It's basically to blow off all the contamination from your suit and your clothes.

スーツや衣服の汚れを吹き飛ばすのが基本だ。

On several long hallways where humongous parts are being meticulously moved.

長い廊下では、巨大な部品が丹念に移動している。

How many people would you say are working here 24-7?

24時間体制で何人が働いていると思いますか？

Inside the EUV factory alone, it's like 2,000 people.

EUV工場の中だけで2,000人はいる。

Essia Haddou took us to the restricted lab space where 40 years of ASML's technology research all comes together.

エッシア・ハドゥは、ASMLの40年にわたる技術研究が集結した、制限されたラボスペースに案内してくれた。

It takes approximately a year and a half to create this system.

このシステムを作るのに約1年半かかる。

Haddou leads the team that tests and qualifies the HiNA machines here.

ハドゥは、ここでHiNAマシンのテストと資格認定を行うチームを率いている。

I think even if you learn more about it, it blows your mind even more.

もっと詳しく知ったとしても、もっと驚かされると思う。

The big machine, at the end of the day, is used to transfer a pattern, which we store on a mask, onto a wafer.

大きな機械は、マスク上に保存したパターンをウェハーに転写するために使われる。

And then at the end of the day, you cut them in pieces, you package them and then you end up in your phone.

そして一日の終わりに、それを切り分けて包装し、携帯電話に入れる。

Joost Benschap joined Dutch electronics giant Philips in 1984.

ヨースト・ベンチャップは1984年にオランダの大手エレクトロニクスメーカー、フィリップスに入社した。

Two weeks later, ASML was founded as a subsidiary, conducting research out of a leaky shed nearby in Eindhoven.

その2週間後、ASMLは子会社として設立され、アイントホーフェンの近くの雨漏りする小屋で研究を行った。

Haddou broke off from Philips with an IPO in 1995.

ハドゥは1995年にIPOを果たし、フィリップスから独立した。

And two years later, Benschap helped spearhead ASML's first foray into EUV.

そして2年後、ベンシャップはASMLのEUVへの最初の進出の陣頭指揮を執ることになった。

Three, four years later, we had enough confidence to put all our eggs in one basket called EUV.

それから3、4年後、私たちはEUVというひとつのカゴにすべての卵を入れるだけの自信を得た。

With hindsight, we can say we placed the right bet.

今にして思えば、我々は正しい賭けをしたと言える。

On a yearly basis, I think we filed several hundred of patents on EUV.

EUVに関する特許は年間数百件出願していると思います。

Christophe Fouquet began as CEO just over a year ago, but he's been with ASML more than 17 years.

クリストフ・フーケがCEOに就任したのは1年前のことだが、ASMLでの勤続年数は17年以上になる。

I think sometimes people forget that, but EUV took us practically more than 20 years.

しかし、EUVには実質的に20年以上かかった。

I would say it's been a very risky investment because when we started, well, there was no guarantee the technology would work.

というのも、始めた当初は技術がうまくいく保証がなかったからだ。

By 2018, ASML had shown that EUV was possible.

2018年までに、ASMLはEUVが可能であることを示した。

And it's the same process used in high N.A.

そして、それは高N.A.で使われているのと同じプロセスだ。

Chips are built in a grid formation on thinly sliced wafers of silicon, each with up to 100 thin layers that make up billions of transistors that determine what the chips can do.

チップは、薄くスライスされたシリコンのウェハーの上に格子状に構築され、それぞれが最大100の薄い層で構成され、チップの機能を決定する数十億のトランジスタを構成している。

These layers are printed using lithography, extremely precise rays of light projected through a mask of the chip design until they hit the surface of the wafer that's been coated with photoresist chemicals.

これらの層は、リソグラフィーを使って印刷される。極めて正確な光線が、フォトレジストの化学物質でコーティングされたウェハーの表面に当たるまで、チップデザインのマスクを通して投射される。

ASML's older generation DUV machines, which it still makes, use rays of deep ultraviolet light with a wavelength of 193 nanometers.

ASMLが現在も製造している旧世代のDUV装置は、波長193ナノメートルの深紫外光線を使用している。

Nikon and Canon in Japan are still competitors in DUV.

日本のニコンとキヤノンはDUVではまだ競争相手だ。

But ASML's real breakthrough came with that bold bet on a technology many thought was impossible, using even shorter wavelength extreme ultraviolet light, EUV, something that to this day, no other company does.

しかし、ASMLの真のブレークスルーは、多くの人が不可能だと考えていた、さらに波長の短い極端紫外線（EUV）を使った技術に大胆な賭けをしたことにある。

A few more people tried for many years, but the size of the investment, the commitment you have to have, I think discouraged quite a few people.

さらに何人かが何年も挑戦したが、投資額の大きさ、コミットメントの必要性から、かなりの人がやる気をなくしたと思う。

Transistors have gotten so small, down to 10,000 times thinner than a human hair, that

トランジスタは髪の毛の1万分の1まで小さくなった。

ASML decided to create its own source of smaller, more precise EUV light.

ASMLは、より小型で高精度のEUV光源を独自に開発することを決定した。

At a wavelength of 13.5 nanometers, it's the width of just five DNA strands laid side-by-side.

波長13.5ナノメートルは、DNAの鎖を5本並べた幅に相当する。

So small that it gets absorbed by almost everything.

とても小さいので、ほとんどのものに吸収されてしまう。

And that's why this whole system needs to be in a vacuum.

だからこそ、このシステム全体が真空である必要がある。

This tiny thread may look like the strand of a spiderweb, but it's actually molten tin being shot out at 50,000 droplets a second.

この小さな糸はクモの巣のように見えるかもしれないが、実は溶けたスズが1秒間に5万滴も飛び散っているのだ。

The tin droplets are vaporized with a laser, and those tiny explosions are what emit photons of EUV light.

錫の液滴はレーザーで蒸発させられ、その小さな爆発がEUV光の光子を放出する。

これはCO2レーザーと呼ばれる。

It's been used in the car industry for many years.

自動車業界では長年使われてきた。

They would cut through steel with one of these.

これ1本で鋼鉄を切り裂くことができる。

We use four of them to shoot at one of these tiny tin droplets to generate a plasma, which is hotter than the sun.

私たちは、この小さな錫の液滴の1つに向けて4つの装置を使い、太陽よりも高温のプラズマを発生させる。

That plasma generates EUV, and that EUV is captured by this collector mirror that comes from Goudsize and brings the light into our scanner.

そのプラズマがEUVを発生させ、そのEUVがGoudsize社から来たこのコレクターミラーによって捕捉され、我々のスキャナーに光をもたらす。

The light bounces off of mirrors that aim it through the lens, much like how a camera works.

カメラの仕組みと同じように、光はミラーに反射し、レンズを通して照らされる。

Because EUV gets absorbed by typical mirrors, German optics company Zeiss made specific mirrors just for ASML that are the flattest man-made surfaces in the world.

EUVは一般的なミラーでは吸収されてしまうため、ドイツの光学メーカーであるツァイスはASMLのためだけに、世界で最も平坦な人工表面を持つ特殊なミラーを製作した。

And then the light is emitted through the projection optics onto the wafer, which is about here.

そして、光は投影光学系を通してウェハー上に照射される。

When the EUV finally hits photoresist chemicals on the surface of the silicon wafer, it prints the minuscule blueprint that makes up the chip.

EUVが最終的にシリコンウェハー表面のフォトレジスト薬品に当たると、チップを構成する極小の設計図が印刷される。

The aim needs to be so precise, TSMC says it's equivalent to shining a laser from the moon to hit a coin on the earth.

その狙いは非常に正確である必要があり、TSMCによれば、それは月からレーザーを照射して地球上のコインに当てるのと同じことだという。

EUV made up less than 8% of ASML's total number of machines sold in 2024.

2024年のASMLの販売台数に占めるEUVの割合は8%未満である。

44 EUV machines versus 374 cheaper DUV machines.

44台のEUV機に対して374台の安価なDUV機。

But with a price tag of $220 million, EUV made up 38% of ASML's system sales revenue.

しかし、2億2,000万ドルという価格で、EUVはASMLのシステム売上高の38％を占めた。

The cost of the chips the tool is going to create is going down.

工具が作るチップのコストは下がっている。

Because you're the only company in the world that makes these machines, what's stopping you from setting the price even higher?

このようなマシンを作っているのは世界で御社だけなのですから、価格をさらに高く設定することを止める理由はあるのでしょうか？

Well, what stopped us is Moore's law says that we need to continue to drive costs down.

私たちを止めたのは、ムーアの法則によれば、コストを下げ続ける必要があるからだ。

This allows you to go to the next node and then the next node and then again the next node.

これにより、次のノードに行き、また次のノードに行き、また次のノードに行くことができる。

If this was to stop, then everyone gets stuck.

もしこれが止まったら、誰もが立ち往生することになる。

ASML began developing its latest $400 million HiNA machines around 2016.

ASMLは2016年ごろ、4億ドルを投じて最新のHiNAマシンの開発に着手した。

Inside, all the same processes still happen with the same EUV light source.

内部では、同じEUV光源を使用して、すべて同じプロセスが依然として行われている。

しかし、1つだけ重要な違いがある。

We increased the aperture of the opening angle of the lens.

レンズの開口角を大きくした。

HiNA stands for high numerical aperture, meaning it has a larger lens opening, increasing the angle at which the light is captured by the mirrors.

HiNAは高開口数（High Numerical Aperture）の略で、レンズの開口部が大きく、ミラーが光を捉える角度が大きくなることを意味する。

More light coming in from steeper angles allows HiNA machines to capture increasingly small designs on chip masks so they can be projected in one exposure step, whereas original lower NA machines reach higher resolution to project these tiny designs using multiple exposures through multiple masks.

HiNA機では、より急角度から入射する光を増やすことで、1回の露光で投影できるように、ますます小さなデザインをチップマスク上に取り込むことができる。

One becomes two, then two becomes three, three becomes four.

1が2になり、2が3になり、3が4になる。

And when the number increases, it gets very complex process-wise and the yield goes down.

そして、数が増えると工程が非常に複雑になり、歩留まりが落ちる。

But with a higher NA, resolution improves and the small designs can be printed with fewer masks, saving time and money.

しかし、NAが高ければ解像度が向上し、小さなデザインでも少ないマスク枚数で印刷できるため、時間とコストを節約できる。

The larger the number, the smaller the thing you can print.

数字が大きければ大きいほど、印刷できるものは小さくなる。

But this higher NA also comes with a much higher price tag for one main reason.

しかし、この高いNAには、はるかに高い価格もついてくる。

The higher the NA of an optic, the bigger the mirror you have to use and therefore the bigger the system.

光学系のNAが高ければ高いほど、使用するミラーも大きくなり、システムも大きくなる。

These machines also take up a huge amount of power.

これらの機械はまた、膨大な電力を消費する。

これらのマシンはどれくらいのパワーを必要とするのか？

If we don't improve the power efficiency of our AI chips over time, the training of the models could consume the entire worldwide energy.

AIチップの電力効率を長期的に改善しなければ、モデルのトレーニングに全世界のエネルギーが消費される可能性がある。

そして、それは2035年頃に起こるかもしれない。

Since the moment we started EUV in 2018, we have reduced the power, the energy needed per wafer exposure by more than 60 percent.

2018年にEUVを開始して以来、ウェーハ1枚あたりの露光に必要な電力やエネルギーを60％以上削減することができました。

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ASMLが4億ドルを投じた新型高NAマシンでチップを高速化する方法 (How ASML Makes Chips Faster With Its New $400 Million High NA Machine)

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