「photoresist」に関連する検索結果が 9 つあります

関連度順
スタンフォードのナノファブリケーション施設ドライエッチング - イントロダクション (全4回中1回) (Stanford Nanofabrication Facility: Dry Etching - Introduction (Part 1 of 4))13:11

スタンフォードのナノファブリケーション施設ドライエッチング - イントロダクション (全4回中1回) (Stanford Nanofabrication Facility: Dry Etching - Introduction (Part 1 of 4))

220
日本語B2 中上級
半導体製造工程の説明 (Semiconductor production process explained)02:05

半導体製造工程の説明 (Semiconductor production process explained)

49
日本語B1 中級
スタンフォードのナノファブリケーション施設ドライエッチング - ドライエッチングプロセスとツールの選択 (全4回中第4回) (Stanford Nanofabrication Facility: Dry Etching - Choosing a Dry Etching Process & Tool (Part 4 of 4))18:58

スタンフォードのナノファブリケーション施設ドライエッチング - ドライエッチングプロセスとツールの選択 (全4回中第4回) (Stanford Nanofabrication Facility: Dry Etching - Choosing a Dry Etching Process & Tool (Part 4 of 4))

4
日本語B2 中上級
日本の半導体復権へ：最強マイクロチップ開発競争 🎧 (Japan's quest for the most powerful microchip leads semiconductor revival 🎧)31:13

日本の半導体復権へ：最強マイクロチップ開発競争 🎧 (Japan's quest for the most powerful microchip leads semiconductor revival 🎧)

10
日本語B1 中級
ASMLが4億ドルを投じた新型高NAマシンでチップを高速化する方法 (How ASML Makes Chips Faster With Its New $400 Million High NA Machine)17:25

ASMLが4億ドルを投じた新型高NAマシンでチップを高速化する方法 (How ASML Makes Chips Faster With Its New $400 Million High NA Machine)

13
日本語B1 中級
Why The World Relies On ASML For Machines That Print Chips18:40

Why The World Relies On ASML For Machines That Print Chips

47
B1 中級
スタンフォード・ナノファブリケーション・ファシリティドライエッチング - ドライエッチングのメカニズム (全4回中第3回) (Stanford Nanofabrication Facility: Dry Etching - Dry Etching Mechanisms (Part 3 of 4))18:38

スタンフォード・ナノファブリケーション・ファシリティドライエッチング - ドライエッチングのメカニズム (全4回中第3回) (Stanford Nanofabrication Facility: Dry Etching - Dry Etching Mechanisms (Part 3 of 4))

187
日本語B2 中上級
日本はどこへ向かうのか？｜片山さつき大臣が英語で語る 移民・半導体戦略の現実（後半編） (日本はどこへ向かうのか｜片山さつき大臣が英語で語る 移民・半導体戦略の現実（後半編）)22:18

日本はどこへ向かうのか？｜片山さつき大臣が英語で語る 移民・半導体戦略の現実（後半編） (日本はどこへ向かうのか｜片山さつき大臣が英語で語る 移民・半導体戦略の現実（後半編）)

8
日本語B1 中級
ホログラフィー (Holography)50:08

ホログラフィー (Holography)

157
B2 中上級